膜厚与表面特性：光谱膜厚量测系统
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概述：
● 在震动环境下，仍可获取准确数值；
● 适用于产线In-line检测；
● 利用光谱仪量测样品反射干涉光谱讯号，以获取薄膜结构及材料参数，如：薄膜厚度、折射率、消光系数、穿透率、反射率及色度量测；
● 应用于半导体、显示器、触控面板、太阳能电池、光学镀膜等产业；
特点：
● 利用光谱仪量测样品反射干涉光谱讯号，以获取薄膜厚度、折射率、消光系数、穿透率、反射率及色度...等材料；
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项目
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规格
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测量类型
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Macro System
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光斑尺寸（直径）
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1～5 mm
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波长范围
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350～850 nm （可选）
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厚度范围
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10 nm～30μm（up to 250 μm）
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厚度重复性
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<1 nm @ 500 nm Oxide on Si substrate
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传输一致性
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<0.5%
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反射一致性
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<0.5%
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色度一致性
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x，y < 0.0005
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数据拉口
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USB
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涂层数
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Up to 5 (or more)
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衬底材料
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Oxide，Nitride， ITO，CF，OLED film@ Si，Glass，PET.
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其它
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折射率（n）、消光系数（k）、反射率、穿透率、色度量测
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